Siliciuro de titanio, disilicida de titanio (TiSi2) es un compuesto químico inorgánico de titanio y silicio. El disiliciuro de titanio tiene las ventajas de baja resistividad, resistencia a altas temperaturas y buena estabilidad, lo que puede usarse ampliamente en microelectrónica, materiales y materiales de recubrimiento resistentes a altas temperaturas de la aviación y otros campos.
Aplicaciones dePolvo de siliciuro de titanio (TiSi₂)
- Industria de semiconductores: Ampliamente utilizado en la fabricación de compuertas, fuentes, drenajes, interconexiones y contactos óhmicos en tecnología MOS, MOSFET y DRAM. Mejora el rendimiento eléctrico y la confiabilidad de dispositivos semiconductores avanzados.
- Capas de barrera: Se utilizan para fabricar capas de barrera de siliciuro de titanio en dispositivos electrónicos. Mejora la estabilidad del proceso, reduce las pérdidas por grabado en las capas de barrera y reduce los costos de fabricación.
- Compuestos reforzados: se añaden compuestos de carburo de titanio₃aluminio (Ti₃AlC₂) con partículas de titanio₅Silicon₃ para mejorar la resistencia mecánica y la resistencia a altas temperaturas.
- Recubrimientos funcionales de vidrio: Se aplican como un recubrimiento compuesto sobre vidrio para mejorar la resistencia mecánica, la resistencia a la corrosión y las propiedades de atenuación y aislamiento térmico. Cuando se combina con silicio, carbono o nitrógeno, se pueden formar recubrimientos multifuncionales avanzados como carburo de silicio, carburo de titanio y nitruro de titanio.
- Componentes electrónicos: para componentes semiconductores.
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